文/王新喜

近期，國產(chǎn)光刻機(jī)突破的消息不斷涌現(xiàn)，有小道消息透露，中國光刻機(jī)獲得重大突破，50億工廠落地浙江，阿斯麥地位危矣。

此外，根據(jù)科技大V“廠長是關(guān)同學(xué)”早前透露，EUV光刻機(jī)有望2028年攻克落地。只要解決EUV問題，突破5nm節(jié)點(diǎn)，進(jìn)軍更高的4、3、2、1就有了可能。

但伴隨著這種自嗨，也不乏理性的聲音。據(jù)鈦媒體報(bào)道，中微公司創(chuàng)始人、董事長兼CEO尹志堯在參加上海證券交易所聯(lián)合舉行的科創(chuàng)板開市五周年活動(dòng)時(shí)指出，中國應(yīng)該承認(rèn)在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域離國際最先進(jìn)水平還有相當(dāng)一段距離，未來5-10年內(nèi)，中國半導(dǎo)體設(shè)備有可能達(dá)到以美國企業(yè)為首的國外先進(jìn)技術(shù)水平。

尹志堯指出，當(dāng)前“國內(nèi)可提供設(shè)備占集成電路生產(chǎn)線的15%-30%，但中國有上百個(gè)設(shè)備公司、20多個(gè)成熟公司正在拼命努力，幾乎涵蓋半導(dǎo)體十大類設(shè)備，我們應(yīng)該用5年、10年的時(shí)間，達(dá)到國際最先進(jìn)水平，這是可以實(shí)現(xiàn)的。”

從尹志堯透露的信息來看，在光刻機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備上，我們還需要5~10年的時(shí)間， 這意味著中國半導(dǎo)體設(shè)備整體技術(shù)水平相較于海外設(shè)備龍頭仍有較大差距。

CINNO Research數(shù)據(jù)顯示，2022年上半年全球半導(dǎo)體設(shè)備廠商TOP 5分別為：應(yīng)用材料（NASDAQ:AMAT，美國）、阿斯麥（ASML，荷蘭）、東京電子（Tokyo Electron，日本）、泛林集團(tuán)（美國）、科磊（KLA Corp，NASDAQ:KLAC，美國），總占比超過70%以上，從而把晶圓制造的關(guān)鍵流程設(shè)備全覆蓋。

這意味著，當(dāng)前中國芯片設(shè)備領(lǐng)域仍嚴(yán)重依賴海外企業(yè)，自主率較低。國內(nèi)芯片設(shè)備廠商依然需要通過國際合作不斷壯大。

而依賴海外的情況從ASML財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)能看出來。2024年第二季度，阿斯麥訂單量增至56億歐元，同比增長約 24%。該季度阿斯麥中國區(qū)收入約為23億歐元，約80億元，中國區(qū)市場是阿斯麥第一大收入來源，在總收入中占比49%。

這意味著，ASML差不多一半的光刻機(jī)營收都來自中國市場，其訂單量超出了英媒的預(yù)測，十年前，荷蘭ASML阿斯麥公司全年銷售額也才52億歐元，現(xiàn)在一個(gè)季度銷售額就超過56億歐元。ASML的中國銷售占比從過去的30%左右漲到了49%。

2024年已過半，中國為啥還在大量采購ASML光刻機(jī)？

這么龐大的采購量背后，源于目前國內(nèi)在大規(guī)模的擴(kuò)產(chǎn)芯片產(chǎn)能，截至2023年末，?中國大陸的芯片產(chǎn)能份額為19.1%，今年1-5月份的芯片產(chǎn)能則更是飆升至全球總產(chǎn)量的近三分之一。另外是芯片出口也在猛漲。根據(jù)海關(guān)公布的數(shù)據(jù)，2024年上半年，我國集成電路出口達(dá)到5427億元，同比增長25%，預(yù)計(jì)今年芯片出口將突破1萬億，繼續(xù)保持高速增長。

根據(jù)國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)（?SEMI）?預(yù)測，?中國大陸將在2026年前成為全球最大的芯片生產(chǎn)國。

這么龐大的芯片量，需要購買大量光刻機(jī)，而中國主要是生產(chǎn)成熟制程的芯片，目前被限制的更多是先進(jìn)制程的EUV光刻機(jī)，浸潤式DUV并沒有做太大限制，到目前為止也只限制了2100i和2050i的出口。ASML理論上可以制造7nm水平的浸潤式DUV光刻機(jī)有四款，NXT1980i 2000i 2050i 2100i，它們之間的差別主要是生產(chǎn)效率和良率的差別，而前面兩款至今也沒有對(duì)中國大陸完全禁售，其維護(hù)、耗材供應(yīng)更沒有向中國大陸中斷。

在如今整個(gè)光刻機(jī)市場，主要還是被ASML壟斷，尼康佳能與之差距很大，另外一方面，則是外部形勢面臨不確定性，能買的時(shí)候，多囤積一些有備無患，未雨綢繆。

但這個(gè)數(shù)字背后，我們看到了，盡管光刻機(jī)突破消息層出不窮——比如中國科學(xué)家找出制造光刻機(jī)的新路線了”、 7nm勝利在望，5nm也將獲得突破，兩個(gè)14nm疊加成7nm一類的，但是更多屬于自嗨的范疇——目前的進(jìn)口量越來越大，意味著國產(chǎn)光刻機(jī)距離真正突破還遠(yuǎn)，目前公開的國產(chǎn)光刻機(jī)大概率處于90nm水平，而國內(nèi)芯片制造工藝早就超過了14nm，因此需要大量浸潤式DUV光刻機(jī)。

當(dāng)下我們大量囤購ASML的光刻機(jī)，意味著國內(nèi)光刻機(jī)市場目前沒有平替產(chǎn)品，光刻機(jī)的難度或超出了我們的預(yù)期。

光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)制造的難點(diǎn)主要在于，第一極紫外線光源，光刻機(jī)所要求的體系小，功率高且穩(wěn)定的光源，這點(diǎn)美國一直掌握著成熟技術(shù)，其他國家都是向其采購的。

第二反射鏡面，只有用高精度和高光滑度的鏡片才能聚焦和校準(zhǔn)光線，從而光線才能精確無誤的照射在硅片上來畫出微小圖案。目前能夠達(dá)到光刻機(jī)要求的鏡片標(biāo)準(zhǔn)的廠商也在德國。

另外像是芯片上用的復(fù)合材料，光刻膠，高純度化學(xué)品也多數(shù)都是日本專利。

此外是零部件的自主上，荷蘭ASML生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)，它所需的零件超過10萬個(gè)，而且90%以上的零配件都需要從多個(gè)國家進(jìn)口。從目前情況來看，之所以還需要嚴(yán)重依賴ASML，在于國產(chǎn)設(shè)備零部件還不能做到完全自主。

根據(jù)中微公司創(chuàng)始人、董事長兼CEO尹志堯的說法是，目前刻蝕機(jī)上已經(jīng)有60%的零部件是通過國內(nèi)采購，在MOCVD設(shè)備上的零部件國內(nèi)采購比例高達(dá)80%，但是，60~80%還有一部分是國外比較領(lǐng)先的供應(yīng)廠商在中國的子公司做的，而這些零部件在中國可能會(huì)受到相當(dāng)程度上的限制，因此中國最近兩年正在解決這些零部件的自主可控問題。

從目前來看，芯片設(shè)計(jì)之類的應(yīng)用技術(shù)我們要追上并不難，但光刻機(jī)這種屬于基礎(chǔ)科學(xué)領(lǐng)域的東西，和西方差距確實(shí)非常大，這也源于過去某個(gè)階段，被造不如買的思維誤導(dǎo)，在上世紀(jì)70年代，中國首臺(tái)高端光刻機(jī)還曾經(jīng)赴法國參展，但后來停滯了數(shù)十年的研發(fā)時(shí)間，由此導(dǎo)致了今天的落后。

中科院院士白春禮近期在接受財(cái)經(jīng)專訪時(shí)也直指“”造不如買”思想使科研能力退化：“中國自己也做過光刻機(jī)的，那時(shí)候光刻機(jī)與國外有差距，但是沒有到一代的水平，但是國外光刻機(jī)能賣，做的比你好，自己就不做了，沒了我們就買嘛，全球化、又便宜，所以你自己的隊(duì)伍就沒有了?！?/P>

而經(jīng)濟(jì)學(xué)家黃江南此前表示，光刻機(jī)技術(shù)是人發(fā)明的，人就一定可以解決，中國人才濟(jì)濟(jì)，必能突破重重封鎖，造出自己的光刻機(jī)。但是黃江南也強(qiáng)調(diào)了一點(diǎn)，如果我們依賴國外技術(shù)，中國光刻機(jī)根本發(fā)展不起來。

現(xiàn)在光刻機(jī)在大量進(jìn)口，是一種對(duì)國外設(shè)備的嚴(yán)重依賴，現(xiàn)在這形勢，似乎美國對(duì)ASML的步步緊逼的狀態(tài)消失了，更傾向于傾銷策略。因此，過度夸大自嗨不可取，放手完全依賴國外采購，同樣不是健康的氛圍。

解決自主可控問題，零部件的自主可控是一方面，另一方面是賽道的戰(zhàn)略競爭問題，近日，中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)理事長、長江存儲(chǔ)董事長陳南翔在專訪中也提到了一點(diǎn)，中國芯片產(chǎn)業(yè)目前還沒有達(dá)到爆發(fā)式增長，但未來3-5年將看到這一進(jìn)步。

他表示：“以前大家注重的都是晶圓制造技術(shù)，而在當(dāng)下還需要最新的封裝技術(shù)的加持。比如當(dāng)前火熱的AI芯片都需要最先進(jìn)的晶圓制造技術(shù)和最先進(jìn)的封裝技術(shù)的。未來封裝技術(shù)的重要性恐怕都要超過晶圓制造技術(shù)的重要性。”陳南翔表示，　“摩爾定律”賽道已變，芯片封裝技術(shù)似乎將成為中國在全球芯片競爭中的關(guān)鍵優(yōu)勢。

國內(nèi)對(duì)光刻機(jī)研發(fā)有很大的期待，如果光刻機(jī)不突破，我們芯片制造工藝就會(huì)卡在一個(gè)位置停滯不前。從目前各種行業(yè)消息來看，國內(nèi)從過去停留在學(xué)術(shù)研究層面，轉(zhuǎn)向了轉(zhuǎn)向注重產(chǎn)品創(chuàng)新和商業(yè)模式創(chuàng)新的角度去推進(jìn)研發(fā)，在解決零部件自主上不斷推進(jìn)，目前我們可能正在經(jīng)歷黎明前的黑暗，因?yàn)橹忻乐g的技術(shù)競爭還遠(yuǎn)未結(jié)束，未來還可能進(jìn)一步加碼，如今整個(gè)行業(yè)還在咬緊牙關(guān)，一步一步把它往下做，最終是否會(huì)孕育出一個(gè)巨大的成功，我們拭目以待。

作者：王新喜 TMT資深評(píng)論人 本文未經(jīng)許可謝絕轉(zhuǎn)載